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第五十三章 追光行动(3) (第2/4页)

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算了。

做科研,天赋之外,还得有眼光或者说是运气,否则走错了路,一辈子也就蹉跎了。

而这小子,无疑眼光或者是运气,都是逆天的。

接着,卿云的语气变得严肃,“不过,徐老爷子,还是要快,留给我们的时间并不多。”

徐端颐闻言,眼中闪过一丝坚定的光芒,“小卿,你放心,我这条命豁出去了。”

卿云点了点头,然后继续说道:“第二步,各大科研机构挑大梁,对各个子系统进行攻关,力争在5年内实现国产化率超过50%的目标。

再多的,无非是时间问题。

钱,你们不用考虑。至于基础材料什么的,我会启动另外一个计划来解决,绝对不会短科研一个材料。”

他的话语中透露出强大的自信和决心,让在座的各位大佬都感到了一种前所未有的振奋。

那边的黄令仪此时却给他破了一盆冷水,“小卿,不要盲目乐观。并不是有光刻机就‘大功告成’,可以开始‘印芯片’了。

光刻机更像是中间执行的环节,而在执行前后,还需要很多同样重要的工作,比如说计算光刻和量测。”

术业有专攻,她担心其他做元件和器件的同行不懂,进一步开口解释着,

“计算光刻指的是利用各种物理,化学和数学模型去计算模拟真实光刻发生的过程和结果。

通过修改各种参数,寻找最优的参数组合来修正掩膜板的图形和光源形状,来提升光刻的质量。

这种模拟仿真的思路类似造飞机的时候需要经过很多次的风洞实验,都通过之后才能进行真正的试飞,否则既危险又成本高昂。

计算光刻已经成为现代光刻技术研发的核心和最重要的环节之一。”

那边的徐端颐也补充着,“量测,就是进行芯片的缺陷检测,判断芯片是否合格。

一个晶圆的制作可能包含近百次的曝光,由于每次曝光的间隔都需要对晶圆进行移动调整,为了保证移动的稳定和精准,避免出现小至几纳米的误差导致芯片报废,就需要不断的对晶圆在纳米尺度做量测,并且实现校正和结果的反馈,从而不断的提升良率……”

徐端颐的话还没说完,就被卿云展示出来的ppt给打断了,而后一脸便秘的望着台前正无良笑着的少年。

狗日的!

你便宜老师科普的时候你不打断,我特么说话的时候你就来打脸是吧!

手里的茶杯盖子都想呼在那臭屁小子的脸上了。

太不尊老了!

台上的卿云嘿嘿的笑着,“集成电路制造的主要流程大概是,opc、smo计算光刻-涂胶-曝光-显影-刻蚀-离子注入-光刻胶移除-沉积-下一层制程-量测检验。

这十大工序,如同上面光刻机器的七大系统,我都进行了考虑和安排……”

徐端颐的内心虽然被卿云突如其来的ppt展示打断而感到有些尴尬,但随即他的心中却涌起了一股莫名的欣喜。

他心中暗自思忖:“这小子,确实有两把刷子。这种打脸,打得我舒坦。这说明了,他确实对各个环节都了如指掌,并且一一做了预案。”

徐端颐望着卿云的眼神中,不禁流露出了赞许的神色。

他知道,卿云的准备充分,意味着整个项目的成功概率将会大大提高。

在科研领域,一个详尽的预案往往能够决定一个项目能否顺利进行。

这种被后辈以实力打脸的感觉,让他既感到有些没面子,但同时也感到欣慰。

他明白,他们已经老了,甚至这里坐着的不少人,其实已经到了油尽灯枯的年纪。

科研的未来需要依靠这些有准备

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