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第114章 生物刻蚀
“好！”相较于电磁遗传，刻蚀遗传才更能勾动实验小组的心绪——这种简单的生物，凭什么能够在光照不同的情况下，完成一模一样的刻蚀？
目前人类的刻蚀技术完全体现在了芯片制造上。芯片的光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，它利用光在晶圆上印制微小的图形，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
但芯片制造所需要的工艺和环境要求都极为严苛，几乎不可能如硅锡钠生命这样，在任何恶劣肮脏复杂的环境下都能完成完美的刻蚀。
硅片要在80c左右烘干，要涂覆底胶增强光刻胶和硅片表面的黏附性。
要涂覆一层对紫外光敏感的有机高分子化合物，又或者说光刻胶。
还在较高温度下烘培光刻胶，使溶剂从光刻胶中挥发出来，减轻应力，增强附着性，减薄薄膜，以免设备被光刻胶所污染。
再然后还要利用特定波长的光进行辐照，将掩膜板上的图形转移到光刻胶上，接着用显影液溶解掉曝光或未曝光的部分光刻胶，形成几何图形结构。
最后就是定影、坚膜、图形转移和去胶等等最后的收尾工程，整个过程可以说是无比复杂，而且复杂程度随着晶体管的栅极长度越小而呈指数级增长——否则祖国也不会被“卡脖子”卡那么久。
当然，和栅极长度动辄5纳米7纳米的高精尖芯片不同，硅锡钠生命的“芯片”还是有那么几十纳米的。
可纵然如此，也已经称得上是奇迹！
这种模式的基因组中，可以容纳的信息可以说是海量！要知道，人类dNA也就能包含3.2Gb的信息而已！
压下激动的心情，实验小组纷纷各就各位。
接下来，实验小组按照邓立彬教授的要求，开始准备对硅锡钠生命刻蚀遗传的观测。
阮志宁负责调整实验器材，将硅锡钠生命放入一个透明的容器中，而欧阳妍则准备了一系列不同光照度的光源，以测试硅锡钠生命在不同光照度下的刻蚀遗传能力。
钟湘兰和卢明方则紧张地监测着实验数据，一旦发现异常，他们会立刻向邓立彬教授汇报。实验室的气氛又紧张又激动——每个人都期待着硅锡钠生命能够揭示出更多关于遗传刻蚀的秘密。
若能研究出成果，造成的轰动可想而知！
如果说可控核聚变解决了能源问题，那他们现在就在解决人类本身的问题！
仪器上的数据不断跳动，在不同光照度的实验中，硅锡钠生命都表现出了强大的刻蚀遗传能力，根据电磁波波长的不同，它们能够很快速的完成调整，避免刻蚀出现错误。
只要不是波长超过了物理极限，硅锡钠生命都可以完成刻蚀遗传。
“这是自适应调整……这种调整的机制是什么？”戴定波看着仪器，已经彻底陷入痴迷中，“不行，我一秒钟都等不下去，我想现在就搞清楚！”
钟湘兰呛了他一句：“还现在就搞清楚，省省吧！”
“别光顾着做梦，先把眼下的事情完成。”邓立彬训了戴定波一句，“我们还有一个非常重要的项目没做，你们不会没意识到吧？”
非常重要的项目？
实验小组的成员都愣了一下，还有什么项目，两份实验计划不都已经顺利完成了吗？
目前看来，硅锡钠生命有两套遗传方式，第一种是依靠自身释放电磁波秘钥完成遗传，第二种是依靠外界的电磁波刻蚀完成遗传。这两种方式相辅相成，只要满足任何一个条件，硅锡钠生命都能成功繁衍。
阮志宁轻咳一声，提醒道：“我们要在完全屏蔽内部和外界电磁波的情况下，再观察一次硅锡钠生命，看看两
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